HOUSE OF DOHWA MUNGBEAN WASH OFF MASK (mini)
En rensende leirmaske i praktisk miniformat som trekker ut urenheter, absorberer overflødig talg og etterlater huden klar, jevn og balansert – perfekt for reise eller som introduksjon til produktet.
House of Dohwa Mungbean Wash-Off Mask 10 ml er en dyprensende ansiktsmaske utviklet for å rense porene og forbedre hudens tekstur uten å tørke ut huden. Den kremete leireteksturen legger seg jevnt på huden og hjelper med å absorbere overflødig olje og urenheter, samtidig som huden etterlates myk og frisk etter bruk.
Formulert med mungbønne (Phaseolus Radiatus) som bidrar til å rense huden i dybden og balansere talgproduksjonen, samt kaolin og bentonittleire som effektivt absorberer olje og bidrar til å minimere synlige porer. Inneholder også fuktighetsgivende ingredienser som glyserin og hyaluronsyre som bidrar til å opprettholde hudens fuktbalanse.
Masken bidrar til å fjerne døde hudceller og urenheter fra porene, samtidig som den etterlater huden klarere, glattere og mer balansert uten en stram følelse. Den er spesielt godt egnet for hud med tendens til urenheter, overflødig talg eller synlige porer.
Resultat
Renere porer, jevnere hudtekstur og en friskere, mer balansert hud – i et praktisk format.
Passer for
Alle hudtyper, spesielt kombinert og fet hud, samt hud med tette porer eller urenheter. Perfekt som reisestørrelse eller for å teste produktet.
Nøkkelfordeler
- Renser porene i dybden og fjerner urenheter
- Absorberer overflødig talg og reduserer glans
- Bidrar til jevnere hudteksturGir en frisk og balansert hudfølelse
- Praktisk mini-størrelse for reise eller testing
| Soel PIM attributter. | |
|---|---|
| Brand | House of Dohwa |
| Opprinnelsesland | Sør Korea |
Water, Kaolin, Butylene Glycol, Bentonite, Phaseolus Radiatus Seed Powder, CI 77891, Dipropylene Glycol, Hydroxyacetophenone, CI 77288, Polymethylsilsesquioxane, Caprylyl Glycol, Silica, CI 77492, Fragrance, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Tocopherol, Camellia Sinensis Leaf Extract, Houttuynia Cordata Extract, Oryza Sativa (Rice) Extract, Centella Asiatica Extract.
Vær oppmerksom på at ingrediensene kan endres fra tid til annen. Du vil finne en oppdatert liste over ingredienser på pakken.
Etter rens, påfør masken jevnt over ansiktet. Masser den inn med sirkulære bevegelser. La masken virke i 10 minutter. Til slutt, skyll av med lunkent vann for en forfriskende følelse.